實驗室用的真空甩帶爐參數介紹 　　實驗室用的真空甩帶爐是專為大學研究所研發設計的用于非晶材料制備的專用實驗儀器。它是用來制備和開發亞穩材料(如非晶態材料)的專用設備，該設備除了具有感應爐的全部特點外，還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實驗工作,，廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學的開發與研究。可選配噴鑄功能。 　　下面是實驗室用的真空甩帶爐主要技術參數 　　1.樣品大熔煉量：20g; 　　2.輥輪尺寸：φ200mmx40(不帶水冷); 　　3.銅棍速度：1-3000r/min; 　　4.真空度：優于5x10-4Pa; 　　5.真空甩帶爐熔煉電源功率：7KW; 　　6.熔煉溫度：500℃-1700℃，滿足絕大多數實驗要求; 　　7.熔煉坩堝：氮化硼及石英; 　　8.條帶寬度：1-10mm; 　　9.真空腔尺寸：300×300×480mm(L*W*H) 　　10.真空甩帶爐尺寸：620*560*780m（L*W*H） 　　11.標配：主機及感應熔煉電源 　　12.真空熔煉爐桌面式設計，占地空間小，特別節約實驗空間和能源

　　真空甩帶爐的結構特點　　真空甩帶爐是一種常用于半導體、光電子、新材料等領域的熱處理設備，具有以下結構特點：　　1.爐體結構：真空甩帶爐的爐體結構通常采用立式設計，由爐膛、耐熱隔熱層和外殼組成。爐膛內部通常采用高溫合金材料或陶瓷材料制成，能夠承受高溫和真空環境。　　2.甩帶機構：真空甩帶爐中的主要部件是甩帶機構。甩帶機構由驅動裝置、輸送帶和張緊裝置組成。輸送帶采用耐高溫的合金材料制成，并通過驅動裝置帶動輸送帶進行循環運動，以實現物料的連續輸送和熱處理。　　3.加熱系統：真空甩帶爐的加熱系統通常采用電阻加熱器、感應加熱器或輻射加熱器等方式。根據熱處理要求，加熱系統可提供各種加熱方式和分區控制，以實現對物料的精確控溫。　　4.真空系統：真空甩帶爐的真空系統用于提供所需的真空環境。真空系統包括真空泵、真空計、氣體冷凝器等設備，能夠實現高真空或中真空處理。　　5.控制系統：真空甩帶爐配備先進的控制系統，可對溫度、氣氛、輸送速度、真空度等參數進行實時監控和調節。控制系統通常采用PLC、觸摸屏等自動化設備，實現精確的熱處理過程控制和數據記錄。　　總體而言，真空甩帶爐具有結構緊湊、操作方便、加熱均勻、真空度高等特點。它可以實現對物料的連續處理和精確控溫，廣泛應用于高溫熱處理、石墨化、脫氣、退火等工藝過程。但是，具體結構特點還會受到不同制造商的設計和技術水平的影響，因此在選擇和使用真空甩帶爐時，還應考慮到實際需求和設備的性能指標。